产品别名 |
去光阻机,真空电浆去光阻机,等离子去光阻 |
面向地区 |
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等离子去光阻机PA01/PA03B
产品功能
快速去除晶圆上之残留光阻，达到晶圆表面洁净，蚀刻率同业高
产品特色
处理均匀性佳
离子能量低、不损伤基板
没有电极及基板的污染
专利设计之特殊等离子电极
高密度等离子源
1.等离子、清洁
2.可控制低的离子能量
3.结合化学反应性及物理撞击性
处理速度快、清洁、可靠度高
操作范围广
可使用多种制程气体
设备稳定高，容易维护
可依客户需求作更改
应用产业
残余光阻去除
PSS 来料清洁制程
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